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x射線熒光光譜分析儀原理
發(fā)布時間:2018-09-21瀏覽次數(shù):2274返回列表
x射線熒光光譜分析儀原理
能量色散x射線熒光光譜分析
當能量高于原子內(nèi)層電子結(jié)合能的高能X射線與原子發(fā)生碰撞時,驅(qū)逐壹個內(nèi)層電子而出現(xiàn)壹個空穴,使整個原子體系處于不穩(wěn)定的激發(fā)態(tài),激發(fā)態(tài)原子壽命約過程稱為馳過程。馳豫過程既可以是非輻射躍遷,也可以是輻射躍遷。當較外層的電子躍遷到空穴時,所釋放的能量隨即在原子內(nèi)部被吸收而逐出較外層的另壹個次級光電子,此稱為俄歇效應,亦稱次級光電效應或無輻射效應,所逐出的次級光電子稱為俄歇電子。
它的能量是特征的,與入射輻射的能量無關。當較外層的電子躍入內(nèi)層空穴所釋放的能量不在原子內(nèi)被吸收,而是以輻射形式放出,便產(chǎn)生X 射線熒光,其能量等于兩能級之間的能量差。因此,X射線熒光的能量或波長是特征性的,與元素有壹壹對應的關系。 K層電子被逐出后,其空穴可以被外層中 任壹電子所填充,從而可產(chǎn)生壹系列的譜線,稱為K系譜線:由L層躍遷到K層輻射的X射線叫Kα射線,由M層躍遷到K層輻射的X射線叫Kβ射線……。
同樣,L層電子被逐出可以產(chǎn)生L系輻射。如果入射的X 射線使某元素的K層電子激發(fā)成光電子后L層電子躍遷到K層,此時就有能量ΔE釋放出來,且ΔE=EK-EL,這個能量是以X射線形式釋放,產(chǎn)生的就是Kα 射線,同樣還可以產(chǎn)生Kβ射線 ,L系射線等。莫斯萊(H.G.Moseley) 發(fā)現(xiàn),熒光X射線的波長λ與元素的原子
序數(shù)Z有關,其數(shù)學關系如下: λ=K(Z-s)-2 這就是莫斯萊定律,式中K和S是常數(shù),因此,只要測出熒光X射線的波長,就可以知道元素的種類,這就是熒光X射線定性分析的基礎。此外,熒光X射線的強度與相應元素的含量有壹定的關系,據(jù)此,可以進行元素定量分析。
利用X射線管,施加高電壓以加速電子,使其沖撞金屬陽(對陰)從而產(chǎn)生X射線。從設計上分為橫窗型(side window type)和縱窗型(end window type)兩種X射線管,都是設計成能夠把X射線均勻得照射在樣品表面的結(jié)構(gòu)。
X射線窗口,壹般使用的是鈹箔。陰(也叫做:靶材)則多使用是鎢(W)、銠(Rh)、鉬(Mo)、鉻(Cr)等材料。這些靶材的使用是依據(jù)分析元素的不同而使用不同材質(zhì)。原則上分析目標元素與靶材的材質(zhì)不同。
如何利用熒光X射線進行定量分析
在包含某種元素1的樣品中,照射壹次X射線,就會產(chǎn)生元素1的熒光X射線,不過這個時候的熒光X射線的強度會隨著樣品中元素A的含量的變化而改變。元素1的含量多,熒光X射線的強度就會變強。注意到這壹點,如果預先知道已知濃度樣品的熒光X射線強度,就可以推算出樣品中元素A的含量。
利用熒光X射線進行定量分析的時候,大致分為3個方法。壹個是制作測量線的方法(經(jīng)驗系數(shù)法)。這個方法是測定幾點實際的已知濃度樣品,尋求想測定元素的熒光X射線強度和濃度之間的關系,以其結(jié)果為基礎測定未知樣品取得熒光X射線,從而得到濃度值。
另壹個方法是理論演算的基礎參數(shù)法(FP法)。這個方法在完全了解樣品的構(gòu)成和元素種類前提,利用計算的各個熒光X射線強度的理論值,推測測定得到未知樣品各個元素的熒光X射線強度的組成壹致。
NBS- GSC法也稱作理論Alpha系數(shù)法。它是基于熒光X射線激發(fā)的基本原理,從理論上使用基本物理參數(shù)計算出樣品中每個元素的壹次和二次特征X射線熒光強度的?;诖嗽儆嬎鉒achance綜合校正系數(shù),然后使用這些理論α系數(shù)去校正元素間的吸收增應。它與經(jīng)驗系數(shù)法不同,這些校正系數(shù)是從“理論”上取得的,而非建立在“經(jīng)驗”上。因而它也不需要那麼多的標樣,只要少數(shù)標樣來校準儀器因子。