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發(fā)布緊急求購(gòu) |
價(jià)格:電議
所在地:上海
型號(hào):MCR流變儀
更新時(shí)間:2017-05-15
瀏覽次數(shù):1579
公司地址:上海市閔行區(qū)金都路1128號(hào)6號(hào)樓4樓
張經(jīng)理(先生)
馨德儀器公司擁有充滿活力的高素質(zhì)銷售隊(duì)伍和技術(shù)全面,經(jīng)驗(yàn)豐富的售后服務(wù)隊(duì)伍。馨德儀器公司所具有的很高的市場(chǎng)信譽(yù)度及樹(shù)立的誠(chéng)實(shí)負(fù)責(zé)的企業(yè)形象,就是由這支隊(duì)伍通過(guò)不懈的努力務(wù)實(shí)的工作及成功的不斷積累所打造的!馨德儀器公司一直與各知名廠家保持良好的合作關(guān)系,不斷引進(jìn)各種質(zhì)優(yōu)的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備?,F(xiàn)主要經(jīng)營(yíng)的著名品牌有:Metrohm、Mettler-Toledo、Buchi、Agilent Technologies、Malvern、Millpore、Brookfield、Atago、Binder、Anton Paar等,產(chǎn)品涵蓋計(jì)量?jī)x器,實(shí)驗(yàn)室通用儀器,化學(xué)分析,物理測(cè)試等儀器,如自動(dòng)電位滴定儀,水分測(cè)定儀,離子色譜,天平,脂肪測(cè)定儀,凱氏定氮儀,氣相色譜,液相色譜,激光粒度儀等。以上產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于電子,制藥,化工,食品,日化等眾多生產(chǎn)行業(yè)以及高校,研究所等科研機(jī)構(gòu)的實(shí)驗(yàn)室。
馨德儀器公司以“黍稷非馨,明德惟馨”為創(chuàng)業(yè)理念,以誠(chéng)信的經(jīng)營(yíng)之道贏得客戶的信任。馨德儀器公司全體員工非常感謝新老客戶的信任與支持,百分之壹百貳拾的客戶滿意度是馨德儀器公司不變的宗旨和追求;馨德儀器公司將與廣大客戶不斷的一次又一次的從合作愉快走向新的愉快合作!
主機(jī)推薦使用MCR102或MCR302流變儀!
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光學(xué)模塊型號(hào)
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主要功能描述
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主要光學(xué)參數(shù)
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溫度范圍
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顯微流變測(cè)試系統(tǒng) (MicroScope) |
在測(cè)試流變數(shù)據(jù)的同時(shí),用顯微鏡觀察樣品形態(tài),并用攝像機(jī)直接記錄樣品圖像信息,適用于乳液、懸浮液等多相樣品。
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標(biāo)準(zhǔn)光學(xué)倍數(shù):20
zui大光學(xué)倍數(shù):50
分散相尺寸:大于1μm
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0 ~ 120℃
室溫 ~ 300℃
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小角激光散射(SALS)
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在測(cè)試流變數(shù)據(jù)的同時(shí),用激光散射的方法測(cè)試樣品中的分散相形態(tài)信息,并用攝像機(jī)記錄散射圖像,適用于乳液、懸浮液等多相樣品。
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激光波長(zhǎng): 658 nm
激光強(qiáng)度: 2-6 mW 可調(diào)
zui小散射角: ~ 1°
zui大散射角: ~ 25°
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0 ~ 120℃
室溫 ~ 300℃
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X射線散射系統(tǒng)
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研究納米材料的結(jié)構(gòu)
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適用于同步輻射實(shí)驗(yàn)室
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中子散射系統(tǒng)SANS
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研究納米材料的結(jié)構(gòu)
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適用于中子源實(shí)驗(yàn)室
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動(dòng)態(tài)光學(xué)分析
(雙折射和二色性)
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各向同性材料的折光指數(shù)在光傳播的各個(gè)方向均相同,因此雙折射只發(fā)生在各項(xiàng)異性的材料中,雙折射行為同時(shí)也成為了各向異性的標(biāo)志。
某些材料在一個(gè)入射平面的吸收高于另一個(gè)平面,隨著光不斷的深入材料內(nèi)部,光變得越來(lái)越偏振,這種各向異性的吸收稱為二向色性。
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二色性(光路長(zhǎng)20mm) 1·10-9
雙折射(光路長(zhǎng)20mm) 2·10-9
激光波長(zhǎng) 638 nm
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10 ~ 80℃
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UV引發(fā)反應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)
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可通過(guò)流變儀軟件控制光源,用于研究UV引發(fā)的化學(xué)反應(yīng),并與反應(yīng)同步測(cè)試流變學(xué)參數(shù)的變化,通過(guò)流變學(xué)參數(shù)監(jiān)測(cè)反應(yīng)進(jìn)程;如UV固化的油墨和涂料等。
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UV 光源峰值強(qiáng)度(可選):
250 nm - 450 nm:22500 mW/cm²
365 nm: 5600 mW/cm²
320 nm - 390 nm:10300 mW/cm²
320 nm - 500 nm:21700 mW/cm²
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-40℃ to 200℃
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PIV粒子成像測(cè)速
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粒子成像測(cè)速 (PIV)與流變測(cè)量同時(shí)進(jìn)行的技術(shù)是研究液體流場(chǎng)的有效工具,如:剪切帶、流動(dòng)不穩(wěn)定性或起始流等流體行為。
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由透明同軸圓筒系統(tǒng)、CCD、光路系統(tǒng)、成像控制系統(tǒng)等部分組成。
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10℃~70℃
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