TASL是一款全自動(dòng)的、高性能的固體徑跡分析系統(tǒng)，可用來進(jìn)行重粒子和中子的劑量測量。徑跡讀取和分析單元采用高性能的Nikon光學(xué)器件，3D機(jī)動(dòng)控制系統(tǒng)，可快速/地批量分析探測器，整個(gè)測讀和分析過程由系統(tǒng)全自動(dòng)完成。

核技術(shù)、電子電路設(shè)計(jì)、工控自動(dòng)化、軟件開發(fā)等領(lǐng)域的優(yōu)秀專業(yè)人才，并與各種知名研究機(jī)構(gòu)合作，可根據(jù)用戶的應(yīng)用提供最合適的設(shè)備或定制專用儀器。公司產(chǎn)品目前主要包括兩大類，一類為一體化實(shí)驗(yàn)室伽馬能譜測量系統(tǒng)，在線監(jiān)測系統(tǒng)，廢物桶無損檢測系統(tǒng)，保健物理設(shè)備等核測量系統(tǒng)，該類產(chǎn)品包括自研產(chǎn)品和代理產(chǎn)品。另一類為無鉛柔性防護(hù)服和客戶定制化屏蔽防護(hù)裝置。

特點(diǎn)：

l  全自動(dòng)批量分析探測器，讀出ID號(hào)

l  全自動(dòng)對(duì)焦、校正響應(yīng)衰變

l  本底低，低探測限可達(dá)5 kBq/m³，高探測限可達(dá)15 MBq/m³

l  線性度好于3%

l  具有自動(dòng)分辨氡/釷的能力

l  每個(gè)探頭讀出速度快，用戶可選擇讀出時(shí)間

l  自動(dòng)對(duì)焦，高性能成像技術(shù)，可區(qū)分蝕刻徑跡和本底

l  可設(shè)置徑跡分析面積

l  徑跡讀數(shù)自動(dòng)轉(zhuǎn)換成劑量，結(jié)果保存在數(shù)據(jù)庫中，可導(dǎo)出至Excel表

 

技術(shù)參數(shù)：

l  蝕刻單元：

?  蝕刻溶液: 6.25M氫氧化鈉溶液

?  氡蝕刻溫度: 98℃

?  氡探頭蝕刻時(shí)間:1小時(shí)

?  中子蝕刻溫度: 85℃

?  中子探頭蝕刻時(shí)間:2.85小時(shí)

 

l  分析單元：

?  高性能的Nikon光學(xué)器件，3D機(jī)動(dòng)控制系統(tǒng)

?  一次可分析49個(gè)探測器，可定制測量片數(shù)量

?  單個(gè)探頭分析時(shí)間：30-60s

l  氡探測器：

?  材料：CR-39

?  照射時(shí)間：3個(gè)月或更長

?  本底：少于20個(gè)徑跡/cm^-2

?  不確定度：小于1Bq/m^-3

l  中子探測器：

?  材料：CR-39

?  密度：1.30g/cm³

?  度：±12.6%

?  快中子能量范圍：200 keV - 15 MeV

?  尺寸：厚度1mm，各矩形尺寸可定制

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