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3H-2000PS 介孔材料靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀

北京貝士德分析儀器研究院

會(huì)員指數(shù)：

企業(yè)認(rèn)證：

價(jià)格：電議

所在地：北京

型號(hào)：3H-2000PS

更新時(shí)間：2017-08-28

瀏覽次數(shù)：1080

公司地址：北京市海淀區(qū)上地十街輝煌國(guó)際1棟607號(hào)

15910609270 黃成龍(先生) 區(qū)域經(jīng)理

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

3H-2000PS1型介孔材料靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀，具有2個(gè)樣品預(yù)處理脫氣站，1個(gè)樣品分析站。測(cè)試精度高、重現(xiàn)性好。重復(fù)性誤差小于±1%。測(cè)試范圍：比表面0.0005m2/g以上，微孔：0.35-2nm、介孔：2-50nm、大孔：50-500nm，樣品類型：粉末，顆粒，纖維及片狀材料等可裝入樣品管的材料。知名品牌，遠(yuǎn)銷海外，獲得多項(xiàng)

公司簡(jiǎn)介

企業(yè)簡(jiǎn)介

貝士德儀器科技(北京)有限公司是專業(yè)物理吸附類分析儀制造商，集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售、技術(shù)支持，售后服務(wù)為一體；貝士德儀器擁有專業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì)，累計(jì)獲得28項(xiàng)技術(shù)專利；以多項(xiàng)專利獲得2009年新標(biāo)準(zhǔn)的北京高新技術(shù)企業(yè)；2011年通過ISO9001國(guó)家質(zhì)量體系認(rèn)證；2012年4月，獲得北京市科委創(chuàng)新基金支持；2012年10月，獲得國(guó)家科技部創(chuàng)新基金支持；貝士德儀器獨(dú)立的工廠建筑面積5000平米以上，公司注冊(cè)資本500萬人民幣，公司規(guī)模在國(guó)內(nèi)同行業(yè)遙遙領(lǐng)先。

貝士德儀器公司自行研發(fā)的3H-2000系列物理吸附類分析儀，為國(guó)內(nèi)知名品牌，由2000年進(jìn)入市場(chǎng)的3H-2000型發(fā)展而來，經(jīng)過多年的不斷研發(fā)創(chuàng)新，性能達(dá)到國(guó)內(nèi)領(lǐng)先，國(guó)際先進(jìn)水平，其中多項(xiàng)性能指標(biāo)超越進(jìn)口儀器，是國(guó)內(nèi)高精度物理吸附類分析儀的典范。

3H-2000系列物理吸附類分析儀被廣泛用于化工、催化劑、炭化學(xué)、磁性材料、陶瓷，電池行業(yè)的研發(fā)、生產(chǎn)、分析、監(jiān)測(cè)環(huán)節(jié)。儀器先進(jìn)的技術(shù)和穩(wěn)定的性能及優(yōu)質(zhì)的售后服務(wù)，受到客戶的信賴和好評(píng)。

2011年上海辦事處及實(shí)驗(yàn)室成立；2012年，廣州辦事處及實(shí)驗(yàn)室成立；2016年武漢辦事處成立；辦事處實(shí)驗(yàn)室配有各個(gè)型號(hào)的樣機(jī)，可實(shí)地測(cè)試樣品；各個(gè)辦事處具有2-3名經(jīng)驗(yàn)豐富的技術(shù)人員和銷售工程師，可及時(shí)便捷的為客戶提供技術(shù)支持服務(wù)；

工廠簡(jiǎn)介

2015年隨著公司各項(xiàng)業(yè)務(wù)的不斷發(fā)展壯大，舊工廠已不能滿足生產(chǎn)研發(fā)的需要。新工廠提供了更現(xiàn)代化的生產(chǎn)條件、更先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備及舒適宜人的辦公環(huán)境，廠區(qū)設(shè)置生產(chǎn)辦公室、生產(chǎn)調(diào)試室、高壓吸附實(shí)驗(yàn)室、蒸汽吸附實(shí)驗(yàn)室、無塵激光微焊室、氦質(zhì)譜檢漏室、分析測(cè)試中心、會(huì)議室、倉(cāng)庫(kù)、職工餐廳、職工活動(dòng)室等。新工廠良好的研發(fā)、生產(chǎn)、檢測(cè)環(huán)境及相關(guān)配套設(shè)施為優(yōu)秀的儀器品質(zhì)提供保障，為今后持續(xù)發(fā)展，不斷壯大企業(yè)實(shí)力打下了堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。

展開

產(chǎn)品說明

介孔材料靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀測(cè)試?yán)碚摚?br />

吸附、脫附等溫線測(cè)定； BET比表面測(cè)定(單點(diǎn)/多點(diǎn)法)；

朗格繆爾(Langmuir)比表面；統(tǒng)計(jì)吸附層厚度法外比表面；

BJH法孔容孔徑分布； MK-plate法(平行板模型)孔容孔徑分布；

D-R法微孔分析； t-plot法(Boder)微孔分析；

H-K法(Original)微孔分析； MP法(Brunauer)微孔分析；

真密度測(cè)試；粒度估算報(bào)告。

介孔材料靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀測(cè)試范圍：
比表面0. 0005m2/g至無上限；
孔徑：0.35-500 nm(微孔常規(guī)分析: 0. 35-2nm; 介孔分析: 2nm-50nm; 大孔分析: 50nm-500nm)；
總孔體積：0.0001cc/g至無上限。

測(cè)量精度：

比表面積重復(fù)精度≤± 1.0%，可幾孔徑重復(fù)偏差≤0.02nm，真密度≤±0.04%；外表面積≤± 1.5%。

分析位：
多個(gè)分析站，多個(gè)處理站可選（1/2/4/6）；1個(gè)P0站，

測(cè)試1個(gè)樣品和2個(gè)樣品的脫氣處理，并且樣品的測(cè)試過程和脫氣處理可同時(shí)進(jìn)行；測(cè)試系統(tǒng)和脫氣系統(tǒng)相互。

P0：具有的飽和蒸汽壓(P0)測(cè)試站，保證分壓測(cè)試的高準(zhǔn)確性。

測(cè)試系統(tǒng)：
根據(jù)國(guó)標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)“氮?dú)?氦氣”測(cè)試模式，利用氦氣測(cè)試溫區(qū)體積，使測(cè)試精度更高，重復(fù)性更好。

預(yù)處理：
多路脫氣站，脫氣過程由軟件自動(dòng)控制，具有控溫、定時(shí)以及真空泵啟停等功能?？芍С峙c測(cè)試同步進(jìn)行的不同溫度與不同時(shí)間的樣品脫氣處理；還具備預(yù)處理起止時(shí)間的預(yù)設(shè)功能，實(shí)現(xiàn)無人值守測(cè)試和樣品處理，大大提高工作效率。

具有“普通加熱抽真空分子擴(kuò)散模式”和“分子置換模式”兩種可選功能；分子置換模式相對(duì)分子擴(kuò)散模式效率提高1倍以上，可節(jié)省一半以上的預(yù)處理時(shí)間，解決以往靜態(tài)法樣品制備時(shí)間長(zhǎng)的問題。

氣控閥：采用原裝進(jìn)口日本SMC氣控閥，徹底杜因電磁閥發(fā)熱產(chǎn)生的氣體受熱膨脹問題。
壓力測(cè)量：每個(gè)分析站都配有原裝進(jìn)口電容硅薄膜雙壓力傳感器，分段測(cè)試：0-1000torr，0-1torr；讀數(shù)精度誤差≤0.15%，為目前壓力傳感器的zui；大孔段具有P0的實(shí)時(shí)測(cè)試功能，使P/P0在趨于臨界點(diǎn)時(shí)的控制精度達(dá)到0.998；

介孔材料靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀技術(shù)：

l P0測(cè)試站

具有的飽和蒸汽壓(P0)測(cè)試站，保證分壓測(cè)試的高準(zhǔn)確性。

(靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀的飽和蒸氣壓測(cè)試裝置，：ZL201120136959.X)

l 軟硬件配合，徹底消除揚(yáng)析沸騰現(xiàn)象

貝士德的渦旋降塵原理的硬件防抽飛裝置，結(jié)合軟件防抽飛程序徹底消除易揮發(fā)樣品在高真空時(shí)的揚(yáng)析沸騰現(xiàn)象，從而避免了揮發(fā)物污染閥門管路后造成系統(tǒng)氣密性下降的情況。

(具有除塵防污染裝置的靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀，：ZL201320045881.X)

l 可選處理模式

具有外創(chuàng)的樣品預(yù)處理普通模式和分子置換模式兩種模式。

(靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀的凈化預(yù)處理裝置，：ZL201120136943. 9)

介孔材料靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀測(cè)試報(bào)告：

本頁(yè)產(chǎn)品地址：http://18bearing.com/sell/show-7461354.html

免責(zé)聲明：以上所展示的[3H-2000PS 介孔材料靜態(tài)法比表面及孔徑分析儀]信息由會(huì)員[北京貝士德分析儀器研究院]自行提供，內(nèi)容的真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性由發(fā)布會(huì)員負(fù)責(zé)。
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