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發(fā)布緊急求購 |
價(jià)格:電議
所在地:河南 鄭州市
型號(hào):KT-Z1650PVD
更新時(shí)間:2023-08-17
瀏覽次數(shù):768
公司地址:鄭州高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)西三環(huán)路289號(hào)6幢11單元3層73號(hào)
孟工(先生)
金靶材鍍膜磁控濺射,7寸人機(jī)界面,自動(dòng)手動(dòng)模式切換控制,最大功率1000w直流磁控濺射
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等
單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。金靶材鍍膜磁控濺射
所配電源為1000W大功率直流電源,可用于高能量的金屬濺射鍍膜,根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實(shí)現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。
金屬鍍膜磁控濺射薄膜監(jiān)測技術(shù)參數(shù);
控制方式 |
7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
濺射電源 |
直流濺射電源 |
鍍膜功能 |
0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 |
≤1000W |
輸出電壓電流 |
電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 |
機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 |
≤30Pa |
擋板類型 |
電控 |
真空腔室 |
不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺(tái) |
可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底) |
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速 |
8轉(zhuǎn)/分鐘 |
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離 |
40-105mm |
真空測量 |
皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa) |
預(yù)留真空接口 |
KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |