直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜，7寸人機界面，自動手動模式切換控制，最大功率1000w直流磁控濺射

鄭州科探儀器設備有限公司是集開發(fā)、制造、經(jīng)營為一體的材料設備創(chuàng)新型企業(yè)，如今公司的產(chǎn)品已經(jīng)遍布國內大多數(shù)實驗室 及科學高校，科探儀器已經(jīng)成為老師 同學和信任的品牌。 公司以科技創(chuàng)新為主，服務社會為宗旨，積極設計開發(fā)新型材料制備設備，奉獻于教育和科學，經(jīng)過長期的研發(fā)和不斷地技術積累，擁有熱工，制造，控制相關技術，為化學，物理，材料，電子，高分子工程，新材料制備和研發(fā)領域的科學研究提供了精良設備。公司通過和院校老師 同學強強聯(lián)合，形成了有效的信息，技術交流平臺，為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持！ 目前公司已研發(fā)生產(chǎn)產(chǎn)品十多個系列幾十款產(chǎn)品，產(chǎn)品囊括實驗電爐 CVD供氣系統(tǒng) 等離子清洗機 小型離子濺射儀 小型蒸鍍儀 石英管真空封口 真空探針臺 半導體等。 主要適用于科研院校及工礦企業(yè)在新材料、新能源等領域物理特性及化學特性的研究，廣銷于各大院校，及材料研究所。 公司與國內高校，科研院所有多層次的合作關系，建有開放實驗室，相關領域的教授、工程師、博士參與公司產(chǎn)品的研究和開發(fā)。 我們秉承公司的發(fā)展理念，依靠嚴謹?shù)募夹g研發(fā)能力，科學合理的生產(chǎn)工藝，精益求精的制造要求，全心全意做好產(chǎn)品質量和服務工作，科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。

直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜，7寸人機界面，自動手動模式切換控制，最大功率1000w直流磁控濺射

單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備，特別適用于實驗室研究固態(tài)電解質及OLED等

單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。

所配電源為1000W大功率直流電源，可用于高能量的金屬濺射鍍膜，根據(jù)實驗需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。
直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜

直流磁控濺射儀金屬制備鍍膜技術參數(shù)；

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